上海SGN技術，*創(chuàng)意，融化理念。將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改良型膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成。

產(chǎn)品型號：GMSD2000/4

更新時間：2025-07-25

廠商性質：生產(chǎn)廠家

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膠體磨

高剪切膠體磨超高速膠體磨實驗室膠體磨立式膠體磨德國膠體磨陶瓷膠體磨化工膠體磨醫(yī)藥膠體磨食品膠體磨食品級膠體磨高速膠體磨納米膠體磨管線式膠體磨超微磨錐體磨飲料膠體磨食品超微磨超細膠體磨

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三級乳化機常見問題處理方式

實驗室乳化機適用于在小容器內(nèi)少量樣品的均質分散

超高速均質機：提升化工研磨混合效率的核心裝備

三級乳化機主要用于微乳液及超細懸乳液的生產(chǎn)

三級乳化機的組成結構及工作原理

產(chǎn)品介紹

改良型膠體磨，創(chuàng)新膠體磨，研磨分散膠體磨，研磨分散機，改進型膠體磨

上海SGN技術，*創(chuàng)意，融化理念。將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質機”、“研磨乳化機”。

改良型膠體磨，這種*的設計，放眼世界，獨上海SGN一家，咨詢

SGN改進型膠體磨，研磨分散機，簡單的來講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機，合二為一了。同時具備膠體磨和分散機的功能，并且減少了膠體磨和分散機串連后的，時間差因素。從成本上來講，原先兩臺設備的價格，現(xiàn)在用一臺研磨分散機就可以完成，性價比更高。

GMD2000系列，研磨分散設備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

GMD2000系列，研磨分散機的結構：研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

GMD2000系列，研磨分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

GMD2000系列改進型膠體磨設備選型表：

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
GMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
GMD 2000/5	1000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
GMD 2000/10	3000	4,200	23	22	DN80/DN65
GMD 2000/20	8000	2,850	23	37	DN80/DN65
GMD 2000/30	20000	1,420	23	55	DN150/DN125
GMD2000/50	60000	1,100	23	110	DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節(jié)到zui大允許量的10%。